滾鍍鉻工藝
需要鍍鉻的細小零件，如采用通常的掛鍍，不僅效率低，而且鍍件上常留下夾具的痕跡，不能保證鍍層的質量。滾鍍鉻多用于體積小、數量多、又難以懸掛零件的裝飾性多層電鍍，如銅/光亮鎳/鉻或光亮低錫青銅/鉻。此法可提高生產效率、降低成本。但它只適用于形狀簡單、具有一定自重的鍍件；不適用于扁平片狀、自重小以及外觀要求較高的零件電鍍。
滾鍍鉻時應注意的事項如下：
①滾鍍鉻溶液用蒸餾水或去離子水配制，注意清潔，嚴防雜質帶入，特別注意不要帶人Cl一；
②硫酸根應控制適宜，不易過高，以免零件表面發黃或鍍不上鉻，過量的硫酸可用碳酸鋇除去；’
③氟硅酸對鍍層有活化作用，并能擴大光亮范圍，不可缺少，也不宜過量；
④帶電入槽，開始使用沖擊電流，約l～2min即可；
⑤零件裝入滾桶前，必須將桶內的鉻酸液清洗凈，以防零件被鉻酸腐蝕發花；
⑥滾桶使用一段時間后，用鹽酸處理，以除去滾桶網上的鉻層；
⑦零件小，溫度可稍低些，為避免鍍液溫度升高最好用冷卻裝置。