鍍鉻工藝的主要特點
從常用的鉻酸鍍液鍍鉻，與其他單金屬鍍液相比，鍍鉻液雖成分簡單，但鍍鉻過程卻相當(dāng)復(fù)雜，并具有如下特點。
①鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻鹽，而是鉻的含氧酸——鉻酸，屬于強酸性鍍液。電鍍過程中，陰極過程復(fù)雜，陰極電流大部分消耗在析氫及六價鉻還原為三價鉻兩個副反應(yīng)上，故鍍鉻的陰極電流效率很低（10%～l8%）。而且有三個異常現(xiàn)象：電流效率隨鉻酐濃度的升高而下降l隨溫度的升高而下降；隨電流密度的增加而升高。
②在鍍鉻液中，必須添加一定量的陰離子，如SO42-、SiF62一、F一等，才能實現(xiàn)金屬鉻的正常沉積。
③鍍鉻液的分散能力很低，對于形狀復(fù)雜的零件，需采用象形陽極或輔助陰極，以得到均勻的鍍鉻層。對掛具的要求也比較嚴格。
④鍍鉻需采用較高的陰極電流密度，通常在20A/dm2以上，比一般的鍍種高l0倍以上。由于陰極和陽極大量析出氣體，使鍍液的電阻較大，槽壓升高，對電鍍電源要求高，需采用大于l2V的電源，而其他鍍種使用8V以下的電源即可。
⑤鍍鉻的陽極不用金屬鉻，而采用不溶性陽極。通常使用鉛、鉛一銻合金及鉛一錫合金。鍍液內(nèi)由于沉積或其他原因而消耗的鉻需靠添加鉻酐來補充。
⑥鍍鉻的操作溫度和陰極電流密度有一定的依賴關(guān)系，改變二者關(guān)系可獲得不同性能的鉻鍍層。