根據(jù)鍍鉻液的組成和性能不同，可將鍍鉻液分為如下幾類(lèi)。
①普通鍍鉻液 以硫酸根作為催化劑的鍍鉻溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡(jiǎn)單，使用方便，是目前應(yīng)用最為廣泛的鍍鉻液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據(jù)鉻酐濃度的不同，可分為高濃度(350～500g/L)、中濃度(150～250g/L)和低濃度(50～150g/L)鍍鉻液。習(xí)慣上把Cr03250g/L和H2SO42．5g/L的中等濃度鍍鉻液稱(chēng)為“標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液”，又稱(chēng)為“萬(wàn)能鍍鉻液”，用于裝飾及功能性多種鍍鉻。低濃度的鍍鉻液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩(wěn)定，導(dǎo)電性好，電解時(shí)只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性鍍鉻及復(fù)雜件鍍鉻。
②復(fù)合鍍鉻液 以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達(dá)到20%以上。然而，氟硅酸對(duì)陽(yáng)極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強(qiáng)的腐蝕作用，必須采取一定的防護(hù)措施，其襯里和陽(yáng)極最好采用鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。
③自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻液 以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中，硫酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉淀溶解平衡，并分別有一溶度積常數(shù)Ksp，即當(dāng)溶液中[S042-]或[SiF62-]濃度增大時(shí)，相應(yīng)的離子濃度乘積將大于溶度積常數(shù)，過(guò)量的S042-或SiF62-便生成SrS04或K2SiF6沉淀而析出；相反，當(dāng)溶液中[S042-]或[ SiF62-]濃度不足時(shí)，槽內(nèi)的SrS04或K2SiF6沉淀溶解，直至相應(yīng)的離子濃度乘積等于其溶度積時(shí)為止。所以，當(dāng)鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時(shí)，鍍液中[S042-]或[SiF62-]濃度可通過(guò)溶解沉淀平衡而自動(dòng)的調(diào)節(jié)，并不隨電鍍過(guò)程的持續(xù)而變化。這類(lèi)鍍液具有電流效率高(270A)，允許電流密度范圍大(高達(dá)80～100A/dm2)，鍍液的分散能力和覆蓋能力好，沉積速度快(50/-m/h)等優(yōu)點(diǎn)，故又稱(chēng)“高速自動(dòng)調(diào)節(jié)鍍鉻”。但鍍液的腐蝕性強(qiáng)。
④快速鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎(chǔ)上，加入硼酸和氧化鎂，允許使用較高的電流密度，從而提高了沉積速度，所得鍍層的內(nèi)應(yīng)力小，與基體的結(jié)合力好。
⑤四鉻酸鹽鍍鉻液這類(lèi)鍍液的鉻酐濃度較高，鍍液中除含有鉻酐和硫酸外，還含有氫氧化鈉和氟化鈉，以提高陰極極化作用。添加糖或醇作為還原劑，以穩(wěn)定鍍液中的Crs+；添加檸檬酸鈉以掩蔽鐵離子。這類(lèi)鍍液的主要優(yōu)點(diǎn)是電流效率高(35%以上)，沉積速度快、鍍液的分散能力好，但鍍液只在室溫下穩(wěn)定，操作溫度不宜超過(guò)24℃，采用高電流密度時(shí)需冷卻鍍液；鍍層的光亮性差，硬度較低，鍍后需經(jīng)拋光才能滿(mǎn)足裝飾鉻的要求。
⑥常溫鍍鉻鍍液由鉻酐和氟化物(NH4F或NaF)組成，也可加入少量的硫酸。這種鍍液的工作溫度(15～25℃)和電流密度(8～12A/dm2)低，沉積速度慢，適用于薄層電鍍。其電流效率和分散能力較高，可用于掛鍍和滾鍍。
⑦低濃度鉻酸鍍鉻鍍液中鉻酐濃度較標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液低5倍，可大大降低對(duì)環(huán)境的污染。電流效率及鍍層的硬度介于標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻液和復(fù)合鍍鉻液之間，其覆蓋能力和耐蝕性與高濃度鍍鉻相當(dāng)。但鍍液的電阻大，槽電壓高，對(duì)整流設(shè)備要求嚴(yán)格，同時(shí)鍍液的覆蓋能力有待提高。
⑧三價(jià)鉻鍍鉻鍍液中以Cr3+化合物為主鹽，添加絡(luò)合劑、導(dǎo)電鹽及添加劑。該工藝消除或降低了環(huán)境污染，鍍液的分散能力和覆蓋能力較鉻酸鍍液高，陰極電流效率有所改善；可常溫施鍍；槽壓低；電鍍不受電流中斷的影響。但鍍液對(duì)雜質(zhì)敏感，鍍層的光澤較暗，鍍層厚度為幾微米，并不能隨意增厚；鍍層的硬度低，鍍液成分復(fù)雜不利于維護(hù)。
⑨稀土鍍鉻液在傳統(tǒng)鍍鉻液的基礎(chǔ)上加入一定量的稀土元素及氟離子。采用稀土元素可降低鉻酐的濃度、拓寬施鍍溫度范圍(10～50℃)及陰極電流密度范圍(5～30A/dm2)，降低槽壓，改善鍍層的光亮度及硬度。使鍍鉻生產(chǎn)實(shí)現(xiàn)低溫度、低能耗、低污染和高效率，即所謂的“三低一高”鍍鉻工藝。但對(duì)于鍍液的穩(wěn)定性和可靠性，目前尚有不同的看法，尤其是對(duì)其機(jī)理的研究還有待深入。